碳化硅ICP载盘

碳化硅ICP载盘

碳化硅ICP载盘经等静压工艺成型、高温烧结而成。亦可根据用户设
计图纸要求进行外径、厚度尺寸,穴位数量、尺寸、取片槽位置和形状进行精加
工,以满足用户的具体使用要求。

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  • 典型应用
  • 特点和优势
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  • 典型应用

    LED芯片制造中的ICP(Inductively Coupled Plasma)刻蚀工艺,即感应耦合电浆刻蚀。


  • 特点和优势

    良好的导热性、低膨胀系数和均温性能
    耐电浆冲击性
    可以根据客户的具体尺寸要求制作,最大直径可以达到495MM
    耐各种强酸强碱化学试剂腐蚀

  • 规范

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